IT之家 2 月 19 日消息，尼康在其 2025 财年第三财季（截至 2024 年 12 月 31 日）财报的演示文稿中透露，该企业正同合作伙伴一道开发一款兼容 ASML 主导的浸没式 ArF（IT之家注：也称 ...

尼康在近期发布的2025财年第三财季财报演示文稿中，披露了一项重大研发计划。据悉，该公司正携手合作伙伴，致力于开发一款能够融入ASML主导的浸没式ArF光刻生态系统的新型光刻机。这款产品的目标上市时间定为2028财年，即2027年4月至2028年3月 ...

广大晶圆代工巨头也等待着ASML推出的新一代光刻机来提升自己的代工实力。目前ASML表示自家目前最先进的光刻机TWINSCAN EXE：5200即将交付给客户，从而为2nm等更加先进的工艺提供前有力的硬件保证。 ASML目前已经确认将会在不久之后正式交付新一代的EUV光刻机也 ...

近期，国际科技界传来一则重要消息，荷兰高端光刻机制造商ASML公司正式宣告，其最新研发的EUV光刻机型号EXE:5200即将面世并交付客户。这款机器相较于前任型号，性能有了显著提升，但据称将不会对中国企业开放销售。

近期，国际半导体制造设备巨头ASML公司宣布了一项重要进展，其最新款的EUV光刻机EXE:5200即将面世。这款光刻机作为EXE:5000的升级版，性能表现更为卓越，然而却明确表示不会向中国厂商出售。

快科技12月22日消息，ASML已经向Intel等客户出货迄今最先进的高NA EVU光刻机TWINSCAN EXE:5000，还打造了一个特别的纪念品，等比例缩小的乐高玩具 ...

twinscan exe:5000光刻机，作为asml的明星产品，以其0.55na的数值孔径和8nm的分辨率著称。相较于前代nxe系列的0.33na euv系统，其成像对比度提升了40%，能够 ...

目前ASML表示自家目前最先进的光刻机TWINSCAN EXE：5200即将交付给客户，从而为2nm等更加先进的工艺提供前有力的硬件保证。 2025蛇年新篇 2025蛇年新篇 ...

按照官方的说法，EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款，其将拥有更高的晶圆吞吐量（EXE:5000为每小时185片以上），可以更好的为2nm工艺量产做支撑。

在这之前，ASML宣布英特尔订购了业界首个TWINSCAN EXE:5200光刻机（一种具有高数值孔径和每小时 200 多片晶圆的极紫外 (EUV) 大批量生产系统），这标志 ...

市场消息指出，曝光机商ASML取消非员工订购限量版Twinscan EXE:5000乐高订单。这款售价230美元乐高是3.8亿美元High-NA EUV高数值孔径极紫外曝光机的微缩 ...