2023年9月，许多人为“光刻厂”的构想喜大普奔。据说中国可以另辟蹊径，不是用一台台的光刻机，而是用加速器做一个巨大的光源，可以供28 nm、14 nm、7 nm、5 ...

1. 中国科学家提出ssmb-euv光源，有望成为下一代光刻厂技术，实现28 nm、14 nm、7 nm等多种芯片制程使用。 2. ssmb-euv光源具有高功率、适中造价和周长等优点，相较于lpp-euv光源具有明显优势。 3. 然而，ssmb-euv光源仍面临诸多难点，如微聚束在储存环中产生与维持、ssmb相干辐射发光等问题，需要后续研究。

在数字信息时代，我们离不开各种电子产品，它们充斥在生活中的每一寸空间。 这些电子产品来源于科技的不断创新，而科技的核心离不开半导体芯片的发明。 一九九七年，美国IBM公司率先研发出了芯片铜制技术，改变了芯片市场的局势。

根据ASML发布的消息可知，EXE:5200 是第一代 High NA EUV 光刻机 EXE:5000 的改进款，后者更 “更适合大批量生产”。 但ASML说了，第一代主要是用于 High NA EUV ...