（东京13日讯）日本半导体检查装置厂雷泰光电（Lasertec）股价持续低迷。尽管近期业绩表现良好，但市场担忧，雷泰光电的客户英特尔（Intel）和三星电子（Samsung Electronics） ...

内存大厂美光（Micron）发布1γ（gamma）先进制程后，2月送样给英特尔（Intel）和AMD等客户1γ（gamma）DDR5，为内存第一家完成里程碑的企业。

快科技3月11日消息，近日， 存储大厂美光正式发布1γ（gamma）10nm级DRAM内存之后，已经开始向Intel、AMD等客户交付1γ DDR5内存的样品，成为存储行业第一家达成这一里程碑的企业。

在内存技术的最新进展中，美光公司（Micron）已经成功地为英特尔（Intel）和AMD等客户提供了1γ（gamma）DDR5的样品，这一成就标志着美光在行业内率先实现了技术突破。

根据 ASML 的数据，下一代深紫外光刻（DUV）系统使用 193 纳米波长的氩氟激光，可实现 38 纳米特征尺寸的打印；而 EUV 光刻使用 13.5 纳米波长的光，精度更高，但成本也更高。 与美光不同，三星和 SK 海力士在 DRAM ...

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Intel近期对位于俄亥俄州New Albany的晶圆厂建设项目进行了重大调整，该项目的完成时间被推迟到了下一个十年。这一变动意味着，原本期待在近期内看到成果的计划，现在将大幅延后。

5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两 ...

据路透社2月24日报道，英特尔资深首席工程师Steve Carson在美国在加利福尼亚州圣何塞举行的一场会议上表示，英特尔已经安装的两台ASML High NA EUV光刻机正在其晶圆厂生产，早期数据表明它们的可靠性大约是上一代光刻机的 ...

近日，全球领先的半导体制造设备供应商ASML推出的Twinscan EXE:5000 EUV光刻机，凭借其High-NA（高孔径）技术，成为了当前半导体制造领域中最耀眼的明星。据悉，Intel已率先引入并部署了两台此型号的光刻机于其俄勒冈州的Fab D1晶圆厂内，目前正处于紧张的测试与研发阶段。 Intel资深首席工程师Steve ...