最后，对于中芯国际面临的技术瓶颈，王国辉承认，中国目前确实无法获得ASML的EUV光刻机，而这些设备是在尖端节点上生产芯片所需的。 然而 ...

快科技1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定 ...

而光刻机，作为芯片制造中的核心设备，更是被誉为“芯片制造皇冠上的明珠”。其中，EUV（极紫外光）光刻机更是以其高精度、高效率的特点，成为制造先进制程芯片的关键设备。然而，EUV光刻机的制造难度极大，长期以来一直是全球科技界的一大挑战。

制造尖端芯片不可或缺的EUV（极紫外）光刻设备即将登陆日本。日本Rapidus（位于东京千代田区）将于2024年内在千岁工厂(北海道千岁市)引进，这将是日本国内首次引进。将由世界上唯一制造EUV光刻设备的荷兰阿斯麦(ASML)提供。 以Rapidus为开端，日本的 ...

NIL 系统提供的优势可能会挑战价值 1.5 亿美元的机器，这些机器在当今先进的芯片制造中占据主导地位，即极紫外 （EUV） 光刻扫描仪。如果佳能是 ...

Lam Research Corporation (Nasdaq: LRCX) today announced that Aether®, its innovative dry photoresist technology, has been ...

Rapidus plans to install as many as 10 EUV lithography tools into its upcoming fabs in Japan, reports TrendForce, citing ...

This is because all matter, including air, absorbs EUV radiation. For scanner manufacturers, this has two major consequences. First, it means that all the optical elements responsible for the ...