最后，对于中芯国际面临的技术瓶颈，王国辉承认，中国目前确实无法获得ASML的EUV光刻机，而这些设备是在尖端节点上生产芯片所需的。 然而 ...

最后，对于中芯国际面临的技术瓶颈，王国辉承认，中国目前确实无法获得ASML的EUV光刻机，而这些设备是在尖端节点上生产芯片所需的。 然而 ...

哈尔滨工业大学（哈工大）近日宣布，已成功研发出13.5奈米极紫外光（EUV）光源技术，打破此领域由美国企业垄断的局面，也为大陆的国产EUV曝光机 ...

而王国辉突然表态看好中芯国际，认为中国国内市场庞大且具备一定的“隔离效应”，中芯国际缺的是一台国产EUV光刻机，一旦有公司成功研发出EUV光刻设备，那么芯片战就会结束。 这背后是看到了国产EUV光刻机技术突破越来越近，中芯国际未来或有望实现跨越 ...

而王国辉突然表态看好中芯国际，认为中国国内市场庞大且具备一定的“隔离效应”，中芯国际缺的是一台国产EUV光刻机，一旦有公司成功研发出EUV ...

EUV光刻机的波长为13.5nm，而100KeV电子束的波长只有0.004nm，波长短使其在分辨率方面与EUV相比有绝对的优势，也使得电子束能够实现EUV光刻都实现不了 ...

中国高端制造再传捷报！据哈尔滨工业大学消息，该校航天学院赵永蓬教授团队研发的放电等离子体极紫外（EUV）光刻光源，凭借颠覆性技术成果，荣获2024黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛一等奖。这一技术的突破，不仅绕过了ASML的技术壁垒 ...