根据 ASML 的数据，下一代深紫外光刻（DUV）系统使用 193 纳米波长的氩氟激光，可实现 38 纳米特征尺寸的打印；而 EUV 光刻使用 13.5 纳米波长的光，精度更高，但成本也更高。 与美光不同，三星和 SK 海力士在 DRAM ...

快科技3月11日消息，近日， 存储大厂美光正式发布1γ（gamma）10nm级DRAM内存之后，已经开始向Intel、AMD等客户交付1γ DDR5内存的样品，成为存储行业第一家达成这一里程碑的企业。

ASML 的 High NA EUV 设备“EXE:5000”是全球唯一能够提供此类设备的供应商，单台价格高达 5000 亿韩元（IT之家备注：当前约 24.88 亿元人民币）。该设备通过增大透镜和反射镜尺寸，将数值孔径（NA）从 0.33 提升至 0.55，显著提高了光刻精度，是 2 纳米及以下制程的必备工具。

在内存技术的最新进展中，美光公司（Micron）已经成功地为英特尔（Intel）和AMD等客户提供了1γ（gamma）DDR5的样品，这一成就标志着美光在行业内率先实现了技术突破。

内存大厂美光（Micron）发布1γ（gamma）先进制程后，2月送样给英特尔（Intel）和AMD等客户1γ（gamma）DDR5，为内存第一家完成里程碑的企业。

全球半导体巨头纷纷加速引入 High-NA EUV 设备，英特尔（Intel）在 2023 年率先采购了 ASML 的首台 High-NA EUV 设备，并已签订合同购买总计 6 台。据路透社报道，英特尔的前两台 High-NA EUV ...

3月14日消息，英特尔前CEO克雷格·贝瑞特（Craig Barrett）继此前在《财富》（Fortune）杂志上发文反对将英特尔分拆为芯片设计公司和晶圆代工业务之后，近日再度发文呼吁，不应该将英特尔业务分拆成两部分，尤其是Intel ...

如今，英特尔拿到了《芯片法案》最多的补贴，因为其寄托着美国“重塑芯片制造业”的热望，但数百亿美元的补贴也未能挽回英特尔目前的颓势，可见一个国家支柱产业中的领军者一旦错过战略转折点，代价是巨大的；而在人工智能这些新时代浪潮中，这个曾经的巨人步履蹒跚，也可视作美国高端制造业难以重振辉煌的一个缩影。