9月，佳能交付了一种技术的首个商业版本，该技术有朝一日可能颠覆最先进硅芯片的制造方式。这种技术被称为纳米压印光刻技术（NIL，nanoimprint ...

这些计算机芯片推动了当今人工智能、高性能超级计算机和智能手机领域的惊人创新。 如今，由LLNL领导的一个新的研究合作伙伴关系旨在为下一代极紫外（EUV）光刻技术奠定基础，该技术围绕实验室开发的驱动系统——大口径铥（BAT）激光系统展开。这一突破 ...

快科技1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定 ...

最后，对于中芯国际面临的技术瓶颈，王国辉承认，中国目前确实无法获得ASML的EUV光刻机，而这些设备是在尖端节点上生产芯片所需的。 然而 ...

Extreme-ultraviolet (EUV) lithography at 13.5 nm is expected to be introduced in high-volume semiconductor chip production over the next three years. Research is now underway to investigate sub-10 ...

在 EUV 中，这个图案被 madeDELETET MADE ... 在东京以北 100 公里的宇都宫的 NIL 生产基地告诉 IEEE Spectrum，佳能不得不跨越几个很高的工程障碍。

EUV tools with a 11.2nm wavelength The Russian ... Although 11.2 nm still falls within the extreme ultraviolet spectrum, this shift is not a minor adjustment. It means that all optical elements ...