最后,对于中芯国际面临的技术瓶颈,王国辉承认,中国目前确实无法获得ASML的EUV光刻机,而这些设备是在尖端节点上生产芯片所需的。 然而 ...
哈尔滨工业大学(哈工大)近日宣布,已成功研发出13.5奈米极紫外光(EUV)光源技术,打破此领域由美国企业垄断的局面,也为大陆的国产EUV曝光机 ...