哈尔滨工业大学发布消息，EUV光刻机的光源技术取得了重大突破——“放电等离子体极紫外光刻光源”项目荣获了黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛一等奖。

这些计算机芯片推动了当今人工智能、高性能超级计算机和智能手机领域的惊人创新。 如今，由LLNL领导的一个新的研究合作伙伴关系旨在为下一代极紫外（EUV）光刻技术奠定基础，该技术围绕实验室开发的驱动系统——大口径铥（BAT）激光系统展开。这一突破 ...

As US restrictions continue getting tougher, Chinese researchers are coming up with innovative approaches to chip ...

First, because EUV light is absorbed by air (in contrast with 193 nm light), the entire optical system, from source to wafer, must be enclosed in a near-vacuum environment. Second, because EUV ...

Extreme Ultraviolet (EUV) lithography is a critical technology for manufacturing semiconductor chips smaller than 7 ...

快科技1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定 ...

最后，对于中芯国际面临的技术瓶颈，王国辉承认，中国目前确实无法获得ASML的EUV光刻机，而这些设备是在尖端节点上生产芯片所需的。 然而 ...

而王国辉突然表态看好中芯国际，认为中国国内市场庞大且具备一定的“隔离效应”，中芯国际缺的是一台国产EUV光刻机，一旦有公司成功研发出EUV ...

ASML will deliver the first high-NA-EUV chip production machine for mass production in the coming months. This slightly ...

NIL 系统提供的优势可能会挑战价值 1.5 亿美元的机器，这些机器在当今先进的芯片制造中占据主导地位，即极紫外 （EUV） 光刻扫描仪。如果佳能是 ...

their work is centered around a lab-developed driver system dubbed the Big Aperture Thulium (BAT) laser. EUV is a type of photolithography that uses 13.5 nm extreme ultraviolet light from a ...